GRUPO DE PROCESADO POR LÁSER

GRUPO DE PROCESADO POR LÁSER. 
Instituto de Óptica- Consejo Superior de Investigaciones Científicas, Madrid

http://www.io.csic.es/Web_GPL/index.html

Bajo la dirección de Javier Solís y Jan Siegel, el Grupo posee una amplia experiencia en el estudio de fenómenos de interacción láser materia tanto desde el punto de vista fundamental como en su vertiente aplicada. Esta experiencia es especialmente relevante en el caso de la interacción entre pulsos láser ultracortos con medios materiales, línea de investigación que el GPL desarrolla desde principios de los años noventa y en la que ha realizado gran número de aportaciones relativas al análisis de la dinámica de trasformación de materiales irradiados con pulsos ultracortos, con especial énfasis en el desarrollo de técnicas de imagen con resolución temporal. Nuestro  objetivo último es controlar fenómenos de interacción en escalas temporales y espaciales en el rango de los nm y fs, realizando una investigación relevante en el ámbito de la fotónica, la nanotecnología y ciencia ultrarrápida.

Dispone “know-how” e infraestructuras que incluyen: Láseres amplificados de pulsos ultracortos de estado sólido (800 nm, 100 fs, 1 kHz, 1 mJ) y de fibra (1030 nm, 340 fs,, 2 MHz, 40 µJ); láseres de pulsos cortos de excímero (193 nm, 20 ns, 10 Hz, 1 J) y Nd:YAG (1064, 532 nm y 355 nm 10 ns, 10 Hz, 500 mJ), sistemas de síntesis materiales/recubrimientos/nano-estructuras por láser (PLD), sistema avanzado de procesado por láser con deflexión de haz galvanométrica hasta 7 m/s para estructuración superficial, sistemade escritura directa de guías de onda, amplificadores ópticos y láseres bajo superficie. El Grupo también cuenta con una amplia variedad de técnicas de caracterización óptica y estructural, como microscopia óptica y espectroscopia de transmisión y reflexión de alta resolución, elipsometría espectroscópica, caracterización de guías de onda pasivas y activas. Por último dispone de una técnica óptica avanzada con resolución de femtosegundos basada en microscopía óptica. Estas técnicas son de aplicación en una amplia gama de materiales: Metales, semiconductores, polímeros, nanoestructuras,…

Sectores: Óptica/Optoelectrónica, Telecom/Almacenamiento datos, Energía (Fotovoltaica), Sensórica, Oftálmica, Vidrio, Cerámico, Textil, Metales, Marcado, Mecanizado de precisión, Control en línea de producción.

Sistema de láser de fs amplificado de Ti:Al2O3 (800 nm), duración de pulso 100 fs, frecuencia de repetición variable hasta 1 kHz, 1 mJ de energía de pulso (Spectra Physics: “Millennia”, “Tsunami”, “Evolution”, “Spitfire Pro”)	Láser amplificado de fibra de Yb (1030 nm), duración de pulso 340 fs, frecuencia de repetición variable (hasta 2 MHz) y hasta 40 microJ de energía de pulso. Cuenta con configuración de doblado de frecuencia a 515 nm. (Amplitude Systemes: “Satsuma”)
Sistema de escritura 3D de guías en onda por láser de fs, con motores de alta resolución (10 nm) y velocidad hasta 10 mm/s.	Sistema de nano-estructuración 2D por láser de fs a 1030 nm y 515 nm, con sistema de deflexión galvanométrico de alta velocidad y lentes F-Theta.